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　　近年來(lái)，塑料薄膜化技術(shù)得到迅速發(fā)展，研制出各種新的制備技術(shù)和制備裝置.

　　真空蒸鍍法和化學(xué)電鍍迭的使用歷史較長(zhǎng)，在工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用.但是，這些方法適用于單元素物質(zhì)和簡(jiǎn)單化合物的薄膜化.為了實(shí)現(xiàn)更廣泛范圍內(nèi)的薄膜化，近年來(lái)平原有方法進(jìn)行了積極的改進(jìn)，取得了明顯的效果，用計(jì)算機(jī)控制的分子束外延生長(zhǎng)法就是最有代表性的例子，從原理上苧卒是熱沉積方法.用分子束外廷方法可以制備人工超晶格薄膜苧疽.近來(lái)，不僅對(duì)半導(dǎo)體材料而且對(duì)金屬材料也廣泛開(kāi)展了超晶格結(jié)構(gòu)的研究。

淺談新的塑料薄膜制備方法

　　目前，薄膜化工藝正往低溫方向發(fā)展.以濺射法、離子鍍和等離子體化學(xué)氣相沉積法為代表的離子過(guò)程，就滿足上述低溫化的要求.近年來(lái)，高速磁控濺射方法代替電子束沉積方法，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜材料的制備.離子鍍方法在蒸發(fā)源和蒸發(fā)粒子的離子化方法上也進(jìn)行了各種改進(jìn)。

　　最近又提出了類似于離子鍍方法的離子分子群束沉積法(10nizedClusterBeamDeposition)，用蒸發(fā)源形成由1000個(gè)左右的分子組成的分子團(tuán)，在等離子體中離化后被加速，并沉積在基板上形成薄膜.當(dāng)分子團(tuán)和基板表面碰撞時(shí)，分子團(tuán)中的分子在基板表面上有效地移動(dòng)，增加吸附分子的遷移率，從而在更低的溫度下形成單晶薄膜.