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模具涂層術(shù)語簡要介紹

2013-08-08   瀏覽次數(shù):732

環(huán)球塑化網(wǎng)www.PVC123.com訊:

   ADLC

  無定形金剛石硬質(zhì)合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金剛石和石墨的優(yōu)良性能。

  批次

  一個批次指能在同一爐,同一時間進行涂層的零件組

  陰極

  陰極是一個 PVD 術(shù)語,通常指陰極源或靶材,更嚴格地說指陰極,是靶材安裝的極板,并在涂層工序中發(fā)生氣化。

  CVA

  鋁化化學(xué)氣相沉積過程擴散鋁合金到部件表面,提高抗高溫能力,防腐和抗氧化性能。

  CVD

  化學(xué)氣相沉積過程是由反應(yīng)氣體通過化學(xué)反應(yīng)進行涂層沉積,在標準的 CVD 情況下,該反應(yīng)在 800 — 1050 ℃的高溫下進行。

  工藝時間

  涂層時間是一個完整的過程,從一批次裝載到涂層、冷卻和卸載。

  微米

  微米是百萬分之一米

  PACVD

  離子活化 CVD 或離子加強 CVD ,這是 CVD 的低溫(低于 200 ℃)的加工過程,在 PACVD 情況下,通過 RF 電源進行氣體反應(yīng)。

  PECVD

  離子加強 CVD

  PVD

  物理氣相沉積是在涂層設(shè)備爐膛,通過靶材的氣化沉積涂層的物理過程。

  源

  源是 PVD 術(shù)語,它是一種裝置,用來裝夾靶材,同時包括觸發(fā)器,磁體,殼體和冷卻系統(tǒng),源有時指陰極。

  sp2

  硬質(zhì)合金原子類似于石墨

  sp3

  硬質(zhì)合金原子類似于天然金剛石

  基體

  涂層是的基體材料

  靶材

  target 是 PVD 術(shù)語,指被氣化的金屬材料,靶材與源一起通常范指陰極或源

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